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Virtuoso使用layout绘制版图、使用Calibre验证DRC和LVS

1 绘制版图

1.1 进入Layout XL

绘制好Schmatic后,在原理图界面点击Launch,点击Layout XL进入版图绘制界面。
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1.2 导入元件

1、在Layout XL界面左下角找打Generate All from Source
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2、在Generate Layout界面,选中“Instance”,另外两个选项“I/0 Pins”和“PR Boundary”可以不选,点击OK。
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3、可以看到版图界面出现了元件边框,输入“Shift+F”显示元件所有层。

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4、软件左侧为不同层,具体根据PDK手册进行区分。
顶部Valid、Used、Routing可以选择显示不同级别的层,一般点击Used就够用了。

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1.3 绘制版图

这里不详细描述。

  • 左侧打开原理图界面,右侧打开版图界面,可以进行交叉选择,即选择原理图内的元件或导线,版图界面的元件或导线会高光显示。
  • 快捷键A为对齐操作,先点击要移动的元件,再点击参考元件。
  • 快捷键P为布线,会自动吸附,如果要绘制某一层,可以先选择界面左侧的图层。
  • 快捷键Q:先点击某个元件(一般为MOS管),然后按下Q,可以弹出元件属性,在Parameter中可以设置栅极、源极、漏极的连接方式。
  • 快捷键O:过孔(Via),连接不同层。(PMOS、NMOS的基极都需要使用过孔连接到POWER或GND,具体情况具体分析,一般是过孔和N阱区/元器件边缘对齐)
  • 一般需要将引脚通过过孔连接到顶层金属层,点击O后选择Stack就可以做一个直达的过孔,而不需要一层层叠起来。
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  • 快捷键L:标签,一般需要单独的层放置,直接叠在引脚上面,与引脚不接触的话可能LVS通过不了。
  • 快捷键K:测量两个点之间的距离。
  • Shift+G:添加Guard Ring,或者菜单栏点击Create->MPP Guard Ring。
  • 旋转、镜像操作的图标如下:
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  • 对齐操作的图标如下:
    在这里插入图片描述
  • 如果找不到:可以在Window->Toolbars内部寻找。
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本人绘制的反相器版图如下:

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1.4 保存

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2 Calibre DRC

1、点击Calibre->Run nmDRC。

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2、第一次跑DRC一般没有Runset,设置好DRC参数后保存,这里就能用了。这里可以直接Cancel。

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3、导入DRC规则文件:
DRC Rules File一般会放在PDK包的Calibre/DRC内,选择.drc文件。

DRC Run Directory需要新建一个文件夹,否则生成的许多小文件会填满你的文件夹,非常杂乱。
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4、点击Run DRC,运行。

5、运行结束,查看result。
点击漏斗,Show Not Waived,查看设计规则违例的问题。
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6、查找位置:选中一个违例,在界面下方可以查看违例原因;点击小太阳,即可在版图中查看违例位置。

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一般来说,设计规则会有一个更详细的用户手册,设计师能在手册里看到图像化的设计规则。

找到违例后在版图中修改保存,然后继续运行DRC,不断消除错误。
如果是Density(密度)问题,查看问题报告和设计手册,可以添加Dummy管填充区域。

7、保存Runset。

3 Calibre LVS

1、在Layout界面,点击Calibre->Run nmLVS。

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2、Rules添加LVS规则文件:
LVS Rules File一般在PDK库内,选择.lvs文件。
另外设置一个LVS Run Directory。
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3、Input->Netlist中选择Export from schematic viewer,自动导入原理图中的网表。

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4、进入LVS Options:

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手动输入自己的电源网络和地网络。

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5、运行:Run LVS。

如果在1.3绘制版图部分没有设置Label或Label没放置在引脚上(Label的十字准星与引脚无接触),一般会输出错误。
需要查看.lvs文件,寻找Text、TXT、Label所代表的层,一般不能用在drawing层,会有一个单独的层放置Label(我的是M6TXT)。

6、输出结果:
输出CORRECT的话,LVS通过;输出INCORRECT的话,仔细查看report,内部有错误信息。
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http://www.kler.cn/a/369459.html

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