硬件基础知识笔记(2)——二级管、三极管、MOS管
Part 2 二级管、三极管、MOS管
- 1、二级管
- 1.1肖特基二极管和硅二极管选型比较
- 1.2到底是什么决定了二极管的最高工作频率?
- 1.3二极管结电容和反向恢复时间都是怎么来的
- 1.4肖特基二极管的工作原理
- 1.5为什么要用肖特基二极管续流?
- 2、三极管
- 2.1三极管工作原理分析
1、二级管
1.1肖特基二极管和硅二极管选型比较
肖特基二极管的优势主要在速度和压降,对这两个没要求的场景,那自然选择更便宜的由硅构成的二极管。
- 二极管导通电压
提起二极管导通电压,估计脑子里面都是0.7V,形成这个印象其实并不好,有4 点原因。
1、这个0.7V,说的是硅二极管,肖特基二极管要更低。
我们经常使用二极管串联在电源支路上面,防止倒灌。那你担心过二极管上面压降太大吗?
在对压降有要求的地方,可能用的就是肖特基二极管,它的压降有多低呢?
以英飞凌的BAT60BE237 为例子吧,我截个图给大家看看。
通过10mA 的电流,压降才0.24V。
对于一些小电流防倒灌的场合,电压不能下降太多,肖特基二极管就比较实用了。如果工作电流更小,可能压降才零点一几伏。
所以,不要看到个电路中串了个二极管,就觉得这个压降是0.7V。
2、导通电压门限,这本身就是个模糊的定义
我们知道二极管的伏安特性曲线是对数关系,那到底是通过1mA 电流时看作开始导通,还是10mA?100mA?
3、导通电压有时会到1V 以上,不同型号也相差比较大
总会有用到大电流的时候,其实也不用太大,1A 就行。这时硅构成的二极管,它导通电压其实一般都到1V 左右了。
下图是DIODES 品牌的超快恢复二极管系列,可以看到1A 时,导通电压在1V 以上,其中耐压600V以上的二极管导通电压都到了1.7V。
4、发光二极管导通压降差异更大
发光二极管也是二极管,不过它的区别就更大了。
发光二极管有多种颜色,他们的导通电压都不相同:例如红色为2V 左右、蓝色约2.8V 左右等等。
所以,在脑子里面形成潜意识,二极管导通电压为0.7V,非常不好。 - 二极管漏电流
这个参数,值得一提的是,肖特基二极管的漏电流,是硅二极管的100 倍左右。
还有一点就是,漏电流与温度有很大的关系。温度越高,漏电流越大。
硅二极管温度越高,漏电流越大,是原因硅二极管的漏电流是由少子决定的,温度越高,本征激发越强烈,少子浓度会升高,所以漏电流就越大了。
下面对比下某肖特基二极管和硅二极管的漏电流大小。
可以看到,肖特基二极管漏电流较大,在100 摄氏度时甚至到了5mA。
与此同时,漏电流的大小与温度有很大关系,125℃是25℃的几十倍。
其它几个参数简单提下
反向恢复时间:实际应用中的二极管,在电压突然反向时,二极管电流并不是很快减小到0,而是会有比较大的反向电流存在,这个反向电流降低到最大值的0.1 倍所需的时间,就是反向恢复时间。
工作频率:由反向恢复时间决定的。
耐压:记住肖特基二极管耐压值,很难做高就行吧,一般不超过100V,当然,更高的也有,这里只说常见的。而硅二极管可以做很高。
1.2到底是什么决定了二极管的最高工作频率?
估计有不少人会回答是二极管反向恢复时间Trr,也有人会说是二极管结电容,那到底谁是对的呢?
或者说都一样,反向恢复时间由结电容决定?
结电容Cj or 反向恢复时间Trr
到底什么决定了二极管的最高工作频率,我们暂且不论,不过需要知道的是,二极管的反向恢复时间和结电容不是一回事,反向恢复时间绝不能等同于二极管手册中结电容的充放电时间。
- 结电容
二极管会存在寄生电容,这个电容主要就是结电容,这是简单的二极管模型。
- 反向恢复时间
实际应用中的二极管,在电压突然反向时,二极管电流并不是很快减小到0,而是会有比较大的反向电流存在,这个反向电流降低到最大值的0.1 倍所需的时间,就是反向恢复时间。
一般厂家的二极管会给出结电容和反向恢复时间Trr 的参数,我们现在来对比一下4 种不同类型的二极管参数。
分别为肖特基二极管,超快恢复二极管,快恢复二极管,普通二极管。
为了让结果更有说服力,我们保证4 种二极管的生产厂家,耐压,封装,最大工作电流一致。这里选择厂家为DIODE 美台半导体,最大反向耐压都为100V,封装都是SMA,最大工作电流为1A。
型号分别是:
肖特基二极管:B1100-13-F
超快恢复二极管:US1B-13-F
快恢复二极管:RS1B-13-F
普通二极管:S1B-13-F
这几个二极管参数截图如下:
肖特基二极管的结电容是这里面最大的。肖特基二极管的工作频率不是最高的吗?怎么结电容反而是最大的?
虽然规格书手册中,没有列出来肖特基二极管的反向恢复时间,但是我们应该都知道,它的反向恢复时间是最小的。
严格来说,肖特基二极管本身的工作原理与硅二极管是不一样的,它是不存在反向恢复时间的。只是毕竟有寄生电容的存在,所以工作频率也有一个上限
我们知道,这几种二极管的最高工作频率顺序是下面这样的
而现在我们知道,它们的结电容,肖特基是最大的,为80pF。其它三个二极管差不多,为10pF-20pF,但是反向恢复时间相互之间差了一个数量级。
另外,我们假设反向恢复时间就是结电容的充电时间,我们可以计算下充满结电容需要的时间是多长。
以快恢复二极管RS1B-13F 为例,其结电容是15pF,反向恢复电流如下图(规格书中提取的)。平均反向电流大概是0.5A,那么将15pF 从0V 充到-50V 的时间很容易计算出来,是1.5ns,这比实际的反向恢复时间150ns 短很多。
所以可以肯定的是,反向恢复时间的长短,不是由二极管手册标注的那个结电容决定的。
其实很容易想到:
1、如果结电容太大,工作频率高不了。因为频率越高,电容的阻抗越低,信号都从电容直接过去了,二极管失去了反向截止的作用。
2、如果反向恢复时间太大,工作频率也高不了。因为频率越高,电压翻转越快,反偏之后反向电流还没恢复,电压又变了,二极管也失去了反向截止的作用。
所以,总的来说,结电容和反向恢复时间,都会影响二极管的最高工作频率。具体由谁决定,那看谁的影响更大。
肖特基二极管的反向恢复时间很短,所以其工作频率由结电容决定。
硅二极管,其反向恢复时间的影响远大于结电容的影响,结电容一般也就几十pF,因此其最高工作频率由反向恢复时间决定。
而与此同时,我们知道,肖特基二极管与硅二极管相比,肖特基速度是最快的,可以工作在更高的频率。
反向恢复时间并不是手册标注的结电容的充放电时间。
1.3二极管结电容和反向恢复时间都是怎么来的
- 结电容
二极管是两个管脚的器件,两个管脚会形成电容,不过这个电容很小,相比结电容来说,可以忽略不计了。
那结电容到底指的是什么呢?所有的道理,其实都在PN 结里面,我们稍稍深入了解下PN 结,答案就出来了。
结电容有两种,分别是势垒电容和扩散电容。
- 势垒电容
我们知道,P 区空穴多,N 区电子多,因为扩散,会在中间形成内建电场区。N 区那边失去电子带正电荷,P 区那边得到电子带负电荷。
当给PN 结加上稳定的电压,那么稳定后,内建电场区的厚度也会稳定为一个值,也就是说内部电荷一定。如果PN 结上的电压向反偏的方向增大,那么内建电场区厚度也增加,即内部电荷增多。反之,如果电压减小,那么内部电荷减少。
这样一看,不就和电容充放电现象一样吗?
PN 结两端电压变化,引起积累在中间区域的电荷数量的改变,从而呈现电容效应,这个电容就是势垒电容。
上面是对结电容的理解,那么这个结电容大小等于多少呢?如下图
我们知道,势垒宽度,也就是内建电场区的宽度,是与电压相关的。所以说,不同的电压下,势垒电容的大小也是不同的。
所以,当你随意翻开某二极管的规格书,你看到的结电容参数,它会指定测试条件。通常这个条件是1MHz,电压为-4V(反偏)。
事实表明,二极管在反偏时,势垒电容起主要作用,而正偏时,扩散电容起主要作用。下面看看扩散电容。
- 扩散电容
相比与势垒电容,扩散电容要更难以理解。
扩散电容:当有外加正向偏压时,在p-n 结两侧的少子扩散区内,都有一定的少数载流子的积累,而且它们的密度随电压而变化,形成一个附加的电容效应,称为扩散电容。
当PN 结加上正向电压,内部电场区被削弱,因为浓度差异,P 区空穴向N 区扩散,N 区的电子向P区扩散。
扩散的空穴和电子在内部电场区相遇,会有部分空穴和电子复合而消失,也有部分没有消失。没有复合的空穴和电子穿过内部电场区,空穴进入N 区,电子进入P 区。
进入N 区的空穴,并不是立马和N 区的多子-电子复合消失,而是在一定的距离内,一部分继续扩散,一部分与N 区的电子复合消失。
显然,N 区中靠近内部电场区处的空穴浓度是最高的,距离N 区越远,浓度越低,因为空穴不断复合消失。同理,P 区也是一样,浓度随着远离内部电场区而逐渐降低。总体浓度分布如下图所示。
当外部电压稳定不变的时候,最终P 区中的电子,N 区中的空穴浓度也是稳定的。也就是说,P 区中存储了数量一定的电子,N 区中存储了数量一定的空穴。如果外部电压不变,存储的电子和空穴数量就不会发生变化,也就是说稳定存储了一定的电荷。
但是,如果电压发生变化,比如正向电压降低,电流减小,单位时间内涌入N 区中的空穴也会减小,这样N 区中空穴浓度必然会降低。同理,P 区中电子浓度也降低。所以,稳定后,存储的电子和空穴的数量想比之前会更少,也就是说存储的电荷就变少了。
这不就是一个电容吗?电压变化,存储的电荷量也发生了变化,跟电容的表现一模一样,这电容就是扩散电容了。
那这个电容大小是多少呢?
扩散电容随正向偏压按指数规律增加。这也是扩散电容在大的正向偏压下起主要作用的原因。
如上图,二极管的电流也与正向偏压按指数规律增加,所以,扩散电容的大小与电流的大小差不多是正比的关系。
- 为什么是少数载流子的积累呈现电容效应?多子不行吗?
少数载流子,指的是N 区中的空穴,P 区中的电子。要知道,N 区中有更多的电子,就因为P 区中的空穴扩散到N 区,N 区就带正电了吗?
假如没有扩散作用,N 区中电子是多子,且电子带负电,但是整个N 区是电中性的,因为N 区是硅原子和正五价原子构成,它们都是中性的。同理P 区中空穴是多子,整体也是电中性的。
现在将N 区和P 区放到一起,并加上正电压,就有了正向电流。N 区的电子向P 区移动,P 区的空穴向N 区移动,如果电子和空穴都在交界处复合消失,那么N 区和P 区还是电中性的。
但事实是,电子和空穴有的会擦肩而过,电子会在冲进P 区,空穴也会冲进N 区。尽管P 区有很多空穴,电子进入后也不会马上和空穴复合消失,而是会存在一段时间。这时如果我们看P 区整体,它不再是电中性了,它有了净电荷。电荷数量就是还没有复合的电子数量,也就是少数载流子的数量。同理,N区也有净电荷,为少数载流子空穴的数量。
所以说,扩散电容是少数载流子的积累效应。
事实表明,PN 结正偏的时候,结电容主要是扩散电容,PN 结反偏的时候,结电容主要是势垒电容。
- 反向恢复时间
由PN 结构成的二极管都会有一个trr 的参数,这个参数就是二极管的反向恢复时间。
从上一节内容我们知道,trr 这个参数决定了二极管的最高工作频率。
那反向恢复时间到底是怎么来的呢?我们来看下面这个图
在t<0 时,二极管接正向电源,正向电流为(Vf-Va)/Rf。
可以想象,此时PN 结处充斥的很多的载流子,也就是存储了很多的电荷。
如果我们开启上帝视角,会发现,整个PN 结,包括内建电场区,到处都有载流子存在。也就是说,现在整个PN 结相当于是良导体,如果电源迅速反向,电流也是可以迅速反向的。
在t=0 时,二极管接反向电源,但是此时PN 结正偏的特性不会马上改变。
为什么PN 结的正偏特性不会改变呢?
可以这么看,PN 结反偏时内建电场区是基本没有电荷的,很明显,现在存了很多电荷,不把这些电荷搞掉,正偏特性不会变化的。也可以理解为是结电容导致电压不能突变,电荷没放完,结两端的电压就不会变反向。
与此同时,因为存储了大量电荷,此时PN 结可以看成良导体,电流立马反向,反向电流为(Vr+Va)/Rr。
不过需要注意,这时电流的成因是少数载流子反向运动的结果,随着时间推移,少数载流子数量是越来越少的。
在t=ts 时,PN 结中心处少数载流子被消耗光了,此时PN 结的内建电场区开始建立,二极管开始恢复阻断能力。在这之后,P 区和N 区剩余的载流子已经不能反向运动了,因为中间断了。不过,P 区和N区还有剩余的载流子存在,并不为0,几个时刻的载流子浓度分布如下图。
在t>ts 之后,中间被阻断,那是不是整体电流就立马下降到0 呢?其实不是的,电流还是存在的,因为P 区和N 区各自剩余的少数载流子并没有达到热平衡,最终会复合消失,这个复合会产生电流。
这个可能不好理解,中间都断了,不允许电荷穿过,怎么还能有电流呢?
P 区剩余的少数载流子是电子,前面说过,这导致P 区整体看起来带负电。复合完成之后,P 区整体是不带电的,这些电荷必然是慢慢回到了电源,那自然就有了电流。
这类似于电容充放电会形成电流,电容充放电时,两极板中间绝缘,也不会有电荷移动。
所以,尽管中间阻断了,也还是有电流的,只有当重新达到热平衡,复合电流才会为0。
整个过程,电源电压,二极管两端电压,反向电流的波形图如下所示,图中的trr 就是反向恢复时间
如果上网多看看的话,我们有时也会看到这样的图,二极管反向电流最大值的地方并不是平的,并且二极管两端电压会出现反向尖峰。
那到底哪个图是对的呢?
其实,这个差异,仅仅只是电路的不同。如果看明白前面说的二极管反向恢复电流的形成过程,这个图也就能理解了。
前面画的波形,我们的电路中串联有电阻,当没有这个电阻的时候,或者说电阻很小的时候。反向电流会非常大,而从正向电流变为反向电流,这需要时间,这会导致di/dt 非常大。此时,电路中的电感就不能忽略了,因为有电感的存在,导致二极管两端会存在比电源还大的电压,也就是反向电压尖峰。
整个过程如下:
在t<0 时,电感有正向的电流。
在t=0 时,电源突然反向,因为二极管内部充满电荷,此时相当于导体,所以压降很小,这导致反向电压全都落在了电感上面,因此电流以斜率为di/dt=(Vr+Va)/L 下降。
在t=ts 时,二极管开始恢复阻断能力,此时电流达到最大,随后反向电流会下降。
在t>ts 后,二极管的电流为复合电流,随着载流子越来越少,电流也越来越小。此时电感会阻碍电流变小,因此会产生反向感应电压,这会导致在二极管两侧的反向电压比电源电压还大,也就是会出现反向电压尖峰Vrm。随着时间越来越长,复合电流基本为0 了,电感电压也就基本为0 了,此时二极管两端电压也就等于电源电压Vr。
总的来说,反向恢复时间就是正向导通时PN 结存储的电荷耗尽所需要的时间。
因此,就很容易明白下面这些:
1、反向电源电压越小,反向恢复电流越小,电荷耗尽越慢,反向恢复时间越长。
2、正向电流越大,存储的电荷越多,耗尽时间越长,反向恢复时间越长。
3、半导体材料的载流子复合效率越低,寿命越长,电荷耗尽时间越长,反向恢复时间越长。
1.4肖特基二极管的工作原理
- 肖特基二极管的工作原理
肖特基二极管,本质上就是金属和半导体材料接触的时候,在界面半导体处的能带弯曲,形成了肖特基势垒。
通俗理解就是金属和半导体(一般是N 型的)接触的时候,电子会从半导体跑到金属里面去。半导体失去电子,就会带正电,形成空间电荷区(不可移动的正离子构成),这个空间电荷区会阻止电子继续移动,也就形成了肖特基势垒。
当在这个势垒上面加上正向电压(金属电压>半导体电压),那么半导体和金属之间的势垒就降低了。如此一来呢,电子就会从半导体流向金属,从而形成正向电流。
反之,当加上反向电压,势垒被加大,电流基本为0,也就是说反偏截止了。
估计会有疑问:扩散不是从浓度高向浓度低的方向扩散?怎么会是金属失去电子呢?金属的自由电子那么多,搞错了?
这么理解吧,一个金属块,里面有很多自由电子,我们称它们“自由”,说的是它们在这个金属块里面可以自由的移动,只有加一点点电压,电子就能在金属块内运动。
但是如果想让它们脱离金属,飞到真空中去,这个应该是挺难的吧。难归难,就有一个参数衡量到底有多难,那就是功函数。
功函数也叫逸出功,就是把电子从固体内部弄到外部去,所需的最少的能量。
事实表明,这个能量,金属要比半导体(半导体称为电子亲合能)要大。所以,电子更难脱离金属,而半导体相对容易一点。
因此,金属与半导体搞到一起的时候,是金属得到电子。
P 型半导体,N 型半导体,里面其实绝大多数都是硅,只是掺杂了少许杂质,它们的主要特性没有变化,就是硅晶体,可以看作是同一种材料。
而金属和半导体,它们完全是两种材料,得失电子就要考虑逸出功。
其实,P 型半导体和N 型半导体,我们也是可以考虑逸出功的。只不过它们可以看作是一种材料,逸出功是一样的,也就是没有影响,所以一般也就不提了,主要考虑扩散作用了。
问题又来了:你说金属与半导体接触会形成肖特基二极管,那我们实际用的PN 结二极管,焊接的两个管脚是金属导体吧,而里面又是半导体。
所以肯定有金属和半导体接触吧,怎么没听说形成了肖特基二极管?
这里呢,需要说明一下,金属与半导体相接触,并不是一定会形成二极管。
在N 型半导体掺杂很高的时候,形成的势垒会非常的薄,这时的电子呢,可以通过隧道效应直接就穿过这个薄的势垒了。
这时候,这个势垒就相当于是一个低阻值的电阻了,没有二极管的整流特性。这种接触称为欧姆接触。
而掺杂低的时候,形成的势垒相对较宽,电子就不能因为隧道效应越过势垒区了,这时候会形成二极管,这种金属-半导体接触就叫肖特基接触。
2. 肖特基二极管为什么速度快
都知道肖特基二极管比普通的二极管的速度更快,那为什么呢?
通过我们前面的文章知道,普通二极管的速度慢,其原因就是因为有反向恢复时间,而反向恢复时间是因为少数载流子的存储作用导致的。
而从肖特基二极管的工作原理可以看出,它只有一种载流子,那就是电子,也是多子。
所以就不存在反向恢复时间了,或者说反向恢复时间很短吧。
1.5为什么要用肖特基二极管续流?
我们来看一个问题:
为什么开关电源中,一般用肖特基二极管续流,不用快恢复二极管呢?
答案主要有两点:
一是肖特基二极管导通电压更低。
二是肖特基二极管速度更快,反向恢复时间更小。
如此一来,使用肖特基二极管肯定损耗是更小的,温度更低,也不会烫成狗,这样整个开关电源效率也更高。
结合实例,对比肖特基和快恢复二极管两者的差异。
这次我们重点关注图中的二极管,当然了,这个二极管一般使用肖特基二极管,图中使用的是MBR735,也是一个肖特基二极管。
我们看一下二极管的电流和电压波形,如下图:
可以看到,这个肖特基二极管的导通时间是0.5V 左右。
另一方面,二极管在导通到截止切换时,电流有一个向下的脉冲,峰值可以达到-1.2A,这个是反向电流。
也就是说,二极管存在反向导通的时间,并不能在电压反向时马上截止。
我们把下冲拉开看看,如下图:
大的负电流持续的时间大概是2ns 左右,在6ns 时电流完全降低到0。
- 为什么会有这个负电流呢?
这是因为肖特基二极管存在结电容,这个结电容大概是200pF 左右,比硅二极管要大(硅一般是20pF 左右,这里的数值仅供参考,不同二极管不同),电容电压发生变化,自然会有充放电发生,就形成了电流。
也有个说法是肖特基二极管也存在反向恢复时间,只不过很短,小于10ns。
不过我的看法是肖特基是不存在反向恢复时间的,因为反向恢复时间一般认为是少数载流子的存储效应导致的,而肖特基二极管是由肖特基结构成的,不存在少子。但是肖特基二极管它存在结电容,而且这个结电容比硅二极管要大,这个结电容引起的效果有点像是反向恢复时间。
总之意思大概就是,肖特基二极管的反向电流会比较小,持续时间也会比较短。
以上是肖特基二极管的情况,下面看看超快恢复二极管。
换为超快恢复二极管
电路只将二极管换成了超快恢复二极管MURS320。
从它的手册里面可以知道,反向恢复时间最大是35ns,这在二极管中这已经是相当小的。我们也看一下它的电流和电压波形。
可以看到,导通电压要更高一些,是0.7V 左右。这个下冲就更明显了,直接达到了-38A 左右,有点吓人。
我们也把下冲拉开看看。
可以看到,持续的时间大概是5ns 左右。这里可能有一个疑问:前面不是说这个管子反向恢复时间是35ns 左右吗?怎么现在这么小?
我的想法是,反向恢复时间是在一定条件下测试的,反向电流是有限制的,如下图:
而我们这个boost 电路,肯定跟这个测试电路是不同的,在反向时,并没有什么别的器件能阻碍反向电流,所以反向电流会比较大。
并且,二极管反向恢复时间,就是正向导通时PN 结存储的少数载流子电荷耗尽所需要的时间。
反向截止之前,正向电流一定,那么存储的电荷就一定。截止切换时,反向电流越大,那么存储的电荷消耗得就越快,进而导致持续的时间越短,所以我们看起来的反向恢复时间与二极管手册里面有较大区别。
- 超快恢复换成普通硅二极管会怎么样?
结果是:换成普通硅二极管之后,这个boost 直接工作异常,输出电压不对了,直接gg。
原因想想也很简单,普通硅二极管的反向恢复时间都到了us 级别了,开关频率300Khz,周期就是3.3us,半个周期是1.67us,在这个频率下,二极管基本可以看作是一直导通了。
2、三极管
2.1三极管工作原理分析
e = -
d
φ
d
t
\frac{dφ}{dt}
dtdφ = -L
d
i
d
t
\frac{di}{dt}
dtdi
w =
1
L
C
\frac{1}{\sqrt LC }
LC1
A
B
→
\overrightarrow{AB}
AB
∫
\int
∫
L
C
\sqrt LC
LC
敬请期待。。。